mhomogen/レーザー光学系・ホモジナイザー

	フォトンリサーチ株式会社	自社製品案内		設計書

レーザー光学系・ホモジナイザー

	主な応用
	レーザー光学系
	● 正方形ビームホモジナイザー ● 線条形ビームホモジナイザー ● 各種投影レンズ・F-θレンズ ● デリバリ光学系・減衰光学系 ● 紫外高出力レーザー光学部品 ● レーザー光学系の設計・製造
	● アブレーション・アニール ● 微細加工:溝/穴開け・カット ● スクライビング・マーキング

レーザービームホモジナイザー

PHO-SQ 正方形	PHO-LN 線条形	PHO-FT Fiber 転送系

PHO-DL デリバリ光学系	PHO-OB CCD光学系	設計要項書

(A) パターン	(B) 強度分布
ホモジナイザー光学系のABC


エキシマレーザーは元々上図の様なバラツキ不均一な強度分布になっています。微細加工やアニール・アブレーションなどではビーム均一性の向上が必要不可欠です。

	左図のような台形状の高度な均一のビーム分布を行うのがビームホモジナイザーの役目です。弊社エキシマ･CO₂･YAGレーザー用ビームホモジナイザーは光強度分布を高度均一にする光学系で、試料への均一照射による表面処理・アニール又は加工試料全面への高度均一微細加工に欠かせない光学系です。弊社製品には正方形と線条形の二種類のホモジナイザーとビーム合せコリメータ光学系、またはアニール用照射エリア縁急峻化レンズ系と微細加工用高解像度投影レンズ系等も有ります。近年では大型 LCDパネル光配向膜表面処理用ファイバ転送ホモジナイザー光学系も開発し製品をラインアップしています。
(C)正方形ビームホモジナイザー台形状均一ビーム強度分布

左図のような台形状の高度な均一のビーム分布を行うのが
ビームホモジナイザーの役目です。
弊社エキシマ･CO₂･YAGレーザー用ビームホモジナイザーは
光強度分布を高度均一にする光学系で、試料への均一照射
による表面処理・アニール又は加工試料全面への高度均一
微細加工に欠かせない光学系です。弊社製品には正方形と
線条形の二種類のホモジナイザーとビーム合せコリメータ
光学系、またはアニール用照射エリア縁急峻化レンズ系と
微細加工用高解像度投影レンズ系等も有ります。
近年では大型 LCDパネル光配向膜表面処理用ファイバ転送
ホモジナイザー光学系も開発し製品をラインアップしてい
ます。

(C)正方形ビームホモジナイザー
台形状均一ビーム強度分布

本ホモジナイザー製品の特徴

● 繁雑な調整が不要でオンラインでのシステム組込が容易になります。 ● 元の入射ビーム分布に左右されず高度なビーム均一性が得られます。 ● ズームレンズ式簡単な手順で均一化されたビームサイズを変えます。 ● 均一化されたビーム縁部分の立上がりは20μm 以下急峻になれます。

本ホモジナイザー製品の共通仕様

入射ビーム（エキシマ、DPSS、Fiber型、LD、CO2）
適用波長	IR、可視、紫外（157nmまで）
光強閾値	10ns /2J /Pulse（入射KrF、波長248nm時）
寿命	100M Shots 以上（入射KrF、波長248nm時）
ビーム分布（ビーム均一分布エリア内）
不均一性	≦ ±5％（RMSは 5％以下）
縁急峻性	50%－90% エリアエッジ ≦ 25μm
ビームサイズ（サイズ御指定可）
正方形状	正方形、或は、長方形、一方向の長さは、最長250mmまで
線条形状	長軸方向 MAX ＞500mm、尚、短軸方向＜200μm 設計可能
諸オプション
ビームサイズ連続可変	ズーム倍率は正方形に三倍、線条形の短軸も最大三倍に可能
縁を急峻化するタイプ	縁の幅は正方形で最小 25μm、線条形で短軸方向に最小 50μm
高解像度投影レンズ系	解像度 5μm以下
照射面同軸監視光学系	オンラインで、照射面観察用高解像度光学系
デリバリ系	デリバリ光学系、光学システム収納ボックス

PHO-SQ 正方形	PHO-LN 線条形	PHO-FT Fiber 転送系

PHO-DL デリバリ光学系	PHO-OB CCD光学系	設計要項書

紫外高出力レーザー光学系

PPUL：微細加工用高解像度投影レンズ

PFUL： YAG/YLF高調波SHG/THG/FHG用F-θレンズ

PUDL：ビーム分岐・減衰・デリバリ・光学ボックス

PUOP：ミラー・単レンズ・円筒形レンズ等光学部品

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最終更新日 H24年10月01日