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フォトンリサーチ株式会社 | 自 社 製 品 案 内 |
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| PHO-FT Ser.Fiber転送型ホモジナイザー | |||||
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| 正方形 | 線状形 | デリバリ光学系 | CCD光学系 | 前 頁 | ホーム |
| 仕 様 | 構 成 | データ･図面･写真 | 応用例 | Fiber Accessory |
| 概 要 | |||||
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型番： ＰＨＯ−２５１５ＬＡＦＴ | ||||
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| 25W＠405nmＬＤ本体とドライバ内蔵型 二倍ズーム正方形平行光ビーム■7.5〜15mm |
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| PHO-FTシリーズファイバ転送ビームホモジナイ ザーは【システム構成】に示す通り、近年LDと DPSSの高出力化とコンパクト化の技術革新に伴 って小型化されたレーザー本体と電源を内蔵し たＣＷ高出力のビーム均一照射装置です。サイ ズ100mmまでの正方形ビームで2倍ズームレンズ を標準装備しており、線条形ビームにも対応出 来ます。ビーム形状に関して、ビーム分布をご 参照下さい。適用する光源は、最短405nm 波長 のLDから近赤外までの各々LD とDPSSとFiber型 の固体レーザーの全てです。尚、ファイバでビ ームを転送されますので、第十世代(G10) 以上 の大型液晶パネル基板の照射装置として組込み 易くなり、主に最近話題になりました大型液晶 パネル光配向膜のレーザーラービングに照らし て弊社独自の技術で開発したシステムです。 この光学系の【応用例】も御参照下さい。 |
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| 特 徴 | |||||
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| ● レーザー本体と電源内蔵ファイバ転送でシステムに組込易くなります。 ● 元の入射ビームに左右されずカスタマイズビーム形状に整形出来ます。 ● スペックルを抑えてホットスポットを無くし高度な均一性を持ちます。 ● ２度以下ビーム拡がり角の近似平行光で露光等超微細投影系に最適化。 ● 均一化ビームながら調整容易な構造に二倍ズームレンズでサイズ可変。 |
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| 仕 様 | |||||
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| 入射ビーム | |
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| 波 長 | 400nmから700nmの可視域と1600nmまでの赤外 |
| 光強閾値 | ＣＷで出力パワー200W以内 |
| 寿 命 | 半永久的に使用可能 |
| ビーム特性 | |
| 均 一 性 | 不均一性≦ ±5％（RMSは 5％以下） |
| 縁急峻性 | 標準タイプ片側エッジ（FWHM）、＜10% |
| 光発散角 | ファイバ転送後 フリースペースビームの拡がり角 ＜2° |
| サ イ ズ | 正方形か長方形片方向Min0.1mm〜Max100mmの間に指定可 |
| オプション | |
| サイズ可変 | ズームレンズで、標準は2倍 ※ 3倍以上相談可 |
| 縁急峻化 | 片側のエッジ（FWHM)は、50μm以下に設計可 |
| 高解像度 | 解像度5μm以下対応可能（均一化されたビームを投影加工する場合） |
| ファイバ転送ビームホモジナイザーの構成 | |||||
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| Top | 仕 様 | データ･図面･写真 | 応用例 | Fiber Accessory | 前 頁 | ホーム |
| 1. レーザー本体（DPSSとLDで、出力200Wまで） | |
| 2. レーザードライバとコントローラー（供電は100V AC） | |
| 3. ビーム整形光学系とファイバへ入力光学系 ※ 製品本体は、ラック型3Uボックスに上記1.から3.までが収納されております。 |
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| 4. ビームを転送するファイバジャンパコード | |
| 5. ホモジナイザー光学系ヘッド（下記の構成になります。） | |
| 5-1 | 転送されたビームを受け入れるFC/PCアダプタ |
| 5-2 | ビームホモジナイザー光学系 |
| 5-3 | ビームサイズ可変ズームレンズ |
| 関連データ・図面・写真 等 | |||||
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| Top | 仕 様 | 構 成 | 応用例 | Fiber Accessory | 前 頁 | ホーム |
| 1. ビーム強度分布データ | ||
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| 2. 製品特性関連 | ||
| 2-1 |  |
ファイバ転送且つズームレンズでのビーム可変 |
| 3. 3次元イメージ | ||
| 3-1 |  |
本体 イメージ |
| 3-2 |  |
ホモジナイザーヘッド イメージ |
| 3-3 |  |
製品全体 イメージ |
| 4. 製品関連写真 | ||
| 4-1 |  |
製品の外観写真 |
| 4-2 | |
ファイバ転送とビームサイズ可変 |
| 5. 寸法関係 | ||
| 5-1 |  |
本体3U-Boxの二次元外部寸法図 |
| 5-2 |  |
ファイバピグテール光学ヘッド外部寸法図 (2倍ズームタイプ) |
| ファイバ転送ホモジナイザー応用例 | |||||
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| Top | 仕 様 | 構 成 | データ･図面･写真 | Fiber Accessory | 前 頁 | ホーム |
| ビーム分布均一化の効果 | |
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| 均一ビームでの直接照射 | 照射効果が光強度に高度依存の場合には高度均一ビーム分布必要 |
| 応用分野 | 液晶基板TFTアニールと光ラビング配向、Laser-CVD/PVD表面改質 |
| マスク均一照射投影加工 | 露光と投影加工際パターンの形状・深さは、強度分布に高度依存 全試料面に加工パラメーター高度な一致性を要求する高精度加工 |
| 応用分野 | レーザードリリング･マーキング・スクライビング･カッティング |
| ビーム分布縁急峻化効果 | |
| 試料全面に均一照射の課題 | ビーム移動により試料全面に均一照射する場合、ビーム縁部分の 強度分布は不均一であり、重ねて照射の縁エリアは不均一の要因 |
| 応用分野 | レーザーで大型液晶パネルのＴＦＴアニールと配向膜のラビング |
| ビームサイズ可変の効果 | |
| 照射強度･効率･速度等課題 | ビームサイズを最適な照射強度に合わせて調整出来、効率の向上 |
| 応用分野 | 微細加工、アニール、表面改質等、特に、条件出す予備実験装置 |
| 照射面観察光学系の作用 | |
| 試料観察 CCD光学系の仕組 | 当社の照明と観察光学系で同光軸と非同軸のオンライン観察可能 |
| オンライン観察の不可欠性 | 高精度の位置決め、加工結果のチェック、照射面ビーム分布計測 |
| 応用分野 | 微細加工、アニール等の生産ラインに即時の品質チェックも可能 |
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| 最終更新日 H21年08月13日 |